进口原子层气相沉积设备Ultratech/cambridgenanotechPhoenixG2总体描述应用领域提高硅片运行性能；提高太阳能电池板效率；改善***植入体的安全性。特性SimpleandEasytoUseInterface操作者界面简单便捷预置工艺菜单，用于多种膜层，包括纳米复合材料膜层；工艺腔室大（Gen2.5），可放置大型基片；很多内置的安全性能。可选项:整合大容量臭氧发生器低蒸气气源起泡器整合手套箱自动和半自动进样机生产型ALD原子层沉积设备PhoenixG2是稳定的生产型ALD设备。设计灵活，方便使用；用于多个操作界面；已成为市场***的生产型ALD设备。)