高纯铜靶(Cu)99.999%、高纯镍靶(Ni)99.99%
高纯度铜化学符号:Cu原子量:63.546外观纯铜:紫红色金属熔点:1083.4℃沸点:2567℃密度:8.92g/cm3蒸发源(丝、片):钨、钽、钼、铌坩埚:Mo、C、Al2O3在10-4Torr蒸发温度:1017℃薄膜的机械和化学性质:膜层附着不好,利用中间层Cr可增加附着力;波长/nm折射率n消光系数k反射率/%4500.872.258.35000.882.4262.55500.762.4666.86000.192.9892.68000.174.8497.310000.206.2798.030001.227.1091.270005.2540.798.81025011.060.698.8应用:保护膜,反射膜,增透膜1.铜在电气、电子工业中应用***广、用量***大,占总消费量一半以上。用于各种电缆和导线,电机和变压器的这种,开关以及印刷线路板在机械和运输车辆制造中,用于制造工业阀门和配件、仪表、滑动轴承、模具、热交换器和泵等。2.在化学工业中广泛应用于制造真空器、蒸馏锅、酿造锅等。3.在建筑工业中,用做各种管道、管道配件、装饰器件等。Cu分析报告:纯度99.95%BiSbAsFeNiPb0.0010.0020.0020.0040.0020.003SnSZnP0.0020.0040.0030.001)
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