产品说明四氟化碳R14用途：四氟化碳是目前微电子工业中用量***大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟***高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。物理性质分子式CF4分子量88沸点-128.1℃临界温度-45.67℃临界压力3.74Mpa***臭氧潜能值/ODP0***变暖系数值/GWP1700质量指标外观无色，不浑浊气味无异臭纯度≧99.90%水份≤5ppm氮气，%（v/v）≤0.03氧气，%（v/v）≤0.01二氧化碳≤10ppm氟化碳≤20ppm酸度≤0.1ppm包装规格可重复充装钢瓶10L、40L)