HKCVD-1700系统由高温管式炉，高真空扩散泵/分子泵系统，多通道高精度数字质量流量控制系统，自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。主要功能和特点：1、真空系统可根据使用要求选择我部扩散泵机组或分子泵机组；2、在高温试验过程中，可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全可靠。4、采用水冷KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用***Swagelok卡套连接，不漏气；5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，保证设备及实验的安全性。主要用途和适用范围：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。技术参数：HKCVD-1700本产品通过欧盟CE认证控温方式采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制50段升降温程序。加热元件进口1700型优质硅钼棒工作电源AC220V50HZ/60HZ额定功率≤6KW炉管尺寸Φ60/80/100*/1000mm工作温度≤1600℃***高温度1650℃恒温精度&plu***n;1℃升温速度≤15℃/min测温元件B型热电偶密封方式不锈钢水冷KF法兰挤压密封ZK-FZK-K真空范围0.1-0.001Pa0.1-0.01Pa极限真空5.0*10^-5Pa5.0*10^-4Pa产品配置双级旋片真空泵+分子泵双级旋片真空泵+扩散泵冷却方式风冷水冷抽速110L/S100L/S测量方式复合真空计真空规管电阻规+电离规HKCVD-1700-I测量范围1*10^5～1*10^-1Pa稳压(真空)范围1*10^3～1*10Pa压力(稳定精度）&plu***n;3%控制范围2.5*10^3～5*10^-1Pa控制精度&plu***n;1%HKCVD-1700-Ⅲ控制方式D07-7K质量流量计,D08流量显示仪流量规格（可订制）0－500SCCM/0－1SLM,线性&plu***n;1%F.S.准确度&plu***n;1%F.S.重复精度&plu***n;0.2%F.S.响应时间≤2sec耐压3MPa气路通道3通道（根据客户需求）针阀316不锈钢管道Φ6mm不锈钢管接口SwagelokΦ6mm)