高精度半自动光刻机 北京特博万德科技有限公司
能力数值X,Y方向运动距离,精度+/-6mm;0.1微米Z方向精度+/-0.5微米Theta;精度+/-3°;0.001°光罩旋转+/-15°控制方式软件控制,多种工艺参数可自行设定卡盘移动控制电子杆光刻模式靠近、软接、硬接和真空接触预对准能力X,Y方向+/-25微米;Theta0.5°精对准能力小于1微米光罩尺寸***大14”×14”适用的样品尺寸50~300mm光源选择近紫外,中紫外和深紫外)
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