Q150T的机壳是整体成型的结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间***佳的真空水平，真空腔室直径为165mm(6.5英寸)并带有防爆装置。Q150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。根据不同的应用方向，Q150T细分为三个型号：Q150TS：高分辨率溅射镀膜仪，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。Q150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用***理想的选择。Q150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等触摸屏控制：Q150T操作十分简单，直观的触摸屏，即使***不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。镀膜插入头选项：具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料。直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材。可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）适用于3.05mm碳棒蒸发插入头适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济。碳丝蒸发插入头金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号）样品台选项Q150具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。·标准配置为旋转台,直径为50mm·可预设倾斜角度的旋转台（可选）·可变角度旋转行星台（可选）·可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）·显微镜载玻片样品台（可选）其它选项·用于高样品的加高腔室·膜厚监测器（FTM）·用于测量低和高真空的全范围真空计（皮拉尼真空计）Q150T全自动镀膜系统技术指示：工作腔室：150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩触摸屏用户界面：带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护。样品台：转速为8-20rpm的旋转台真空系统：涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器真空测量：皮拉尼真空计作为标配，可选全量程真空计（10428）极限真空度：10-5mbar两级溅射工作真空范围：5*10-3到5*10-1mbar工艺参数：溅射：0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器。碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。电流脉冲：1-90安培金属蒸发和光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑。金属蒸发头被安装用于向下蒸发，但向上蒸发也能通过配装两个延长电极（可提供）而获得。Servicesandotherinformation：气体：溅射工作气体***气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）电源需求：90-250V~50/60Hz1400VA包括旋转机械泵；110/240V可选择电压尺寸：仪器机箱585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)仪器总重量：33.4KG溅射靶材和碳耗材供应：Q150S和Q150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维。)