公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝i光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。其次是资金上的困难：光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。荷兰的A***L，为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益***，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目，资金充裕。中国也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金，光刻版，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。据统计：根据SEMI，目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元，即210亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。杭州光刻版由苏州微麦光电有限公司提供。杭州光刻版是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：叶佳。)