ETD系列离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，***简单、可靠、经济的镀膜设备。不但满足扫描电镜制备薄膜需要，而且也可作为实验设备，溅射较厚的导电膜层用于其他实验。ETD系列离子溅射仪，可选择普通溅射电极，也可选择磁控溅射电极，有1600V和3000V电离电压可选。基本指标靶（上部电极）：Au/Pt：直径：50mm，厚度：0.12mm真空样品室：直径：160mm，高：120mm样品台及工作距离：高配旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节溅射面积：Ф50mm，***大放置真空指示表：***高真空度：≤4X10-2mbar离子电流表：***大电流：50mA/100mA定时器：***长时间：900S真空度手动控制：微型真空气阀，可连接φ3mm软管可通入气体：多种机械泵：2L/S（120L/min）)