ITO靶的主要生产工艺是：将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀---冷等静压成坯---热等静压制成靶---线切割---客户需要尺寸1、产品：氧化铟锡靶材相对密度为：RD99；纯度≥99.99%2、化学成分In2O3:SnO2=90:10（m/m），偏差为&plu***n;0.5%（m/m）。In2O3:SnO2=97:3（m/m），偏差为&plu***n;0.5%（m/m）。3物理性能3．1相对密度：相对密度≥99％；密度均匀性偏差≤&plu***n;0.2％；3.2电阻率：≤2.0Ω·mm2/m；3.3平均线膨胀系数：（2～9）×10-6℃-1；3.4失氧率：≤5％4物理规格氧化铟锡靶材呈片状或其它形状，***大尺寸为∮250*300，其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。)