正负光刻胶正负光刻胶光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶!正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响***。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，进口光刻胶厂家，正胶难以企及。赛米莱德提供美国Futurre***刻胶的供应与技术参数。***市场目前，光刻胶单一产品市场规模与海外巨头公司营收规模相比较小，光刻胶仅为大型材料厂商的子业务。但由于光刻胶技术门槛高，进口光刻胶厚胶，就某一光刻胶子行业而言，仅有少数几家供应商有产品供应。由于光刻胶产品技术要求较高，中国光刻胶市场基本由外资企业占据，国内企业市场份额不足40%，高分辨率的KrF和ArF光刻胶，其核心技术基本被日本和美国企业所垄断，产品也基本出自日本和美国公司，包括陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业、Fujifilm，以及韩国东进等企业。而细化到半导体用光刻胶市场，国内企业份额不足30%，与国际水平存在较大差距。超过80%市场份额掌握在日本住友、TOK、美国陶氏、美国futurrex等公司手中，国内公司中，苏州瑞红与北京科华实现了部分品种的国产化，光刻胶，但是整体技术水平较低，进口光刻胶NR3000，仅能进入8英寸集成电路生产线与LED等产线。北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）***工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势：1.比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来***产量2.比较高的分辨率和快的显影时间3.根据***能量可以比较容易的调整侧壁角度4.耐温可以达到100摄氏度5.用RR5去胶液可以很容易的去胶NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。在NR9-3000PY里主要的溶剂是，NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量（%）：31-35主要溶剂：外观：浅液体涂敷能：均匀的无条纹涂敷100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度40秒自旋。进口光刻胶厂家-赛米莱德(在线咨询)-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司（）是北京大兴区,工业制品的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在赛米莱德***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创赛米莱德更加美好的未来。)