FHRMicro200PVD单腔单靶设计实验室用磁控溅射设备基片***大直径200mm工艺可选DC或RF版本设备优点占地面积小，设计精简便于使用内部研发的阴极结构，膜层厚度均匀性好便于维护使用研发和教学低投入和操作成本基本参数：尺寸750mmx600mmx1400mm,200kg工艺腔室数1基片尺寸***大30mm(使用定距环＞30mm)均匀镀膜面积直径150mm......更多信息，请联系北京朗铭薛小姐：电话：010-82254950-0/13717751386邮箱：sales@)