法国AnnealsysAs-Micro快速退火炉RTP应用于半导体材料、器件（如LED）、新材料等的快速热处理（如快速退火、合金等工艺），适用3-6英寸工艺尺寸。实验室用3英寸RTP设备双腔版本防止交叉污染应用快速热退火(RTA)离子注入退火化合物半导体退火结晶化和致密化硒化和硫化其他)