法国AnnealsysLPCVD低压化学气相沉积设备，,提供LC100单管和LC102***2种配置的选择。完全PC软件控制，4英寸LPCVD批量生产退火炉。应用于长二氧化硅，非晶硅，多晶硅膜等工艺。LC100和LC102致力于R&D应用广泛。应用•LPCVDprocesses•LPCVD工艺•Polysilicondeposition•多晶硅沉淀•LowstresssiliconNitridedeposition•低应力氮化硅沉淀•Silicondioxidedeposition•二氧化硅沉淀•Annealing•退火•Oxidation•氧化•Etc.•等等TheLC100andLC102areflexibletoolsdedicatedtoR&DLC100和LC102致力于R&D应用广泛Theycanbecustomizeduponrequestforspecialapplicati***设备经需求可提供客户定制的特殊应用设备特性•Multi-zoneresistorfurnacewithLPCVDcapability•多区电阻炉退火炉具备LPCVD性能•Quartztubewithstainlesssteelflanges•石英管配有不锈钢法兰•DigitalPIDtemperaturecontrollers•数字PID温度控制器•Thermocouplecontrol•热电偶•Atmosphericandvacuumprocesscapability大气和真空工艺性能•Pressurecontrolwiththrottlevalve•配有节流阀的压力控制•Purgegaslinewithneedlevalve•配有针阀的吹扫气路•Upto12processgaslineswithdigitalMFC•***多12条配有数字MFC的工艺气路•Doubletubeversion(LC102)to***oidcrosscontamination•***版本（LP102）避免交叉污染•PCcontrolwithEthernetcommunicationforfastdatalogging•配有以太网通讯的PC控制用于快速数据记录•Optionalturbopump•可选配涡轮泵PC完全控制软件•Multi-zoneresistorfurnacewithLPCVDcapability•多区电阻炉退火炉具备LPCVD性能•Quartztubewithstainlesssteelflanges•石英管配有不锈钢法兰•DigitalPIDtemperaturecontrollers•数字PID温度控制器•Thermocouplecontrol•热电偶•Atmosphericandvacuumprocesscapability大气和真空工艺性能•Pressurecontrolwiththrottlevalve•配有节流阀的压力控制•Purgegaslinewithneedlevalve•配有针阀的吹扫气路•Upto12processgaslineswithdigitalMFC•***多12条配有数字MFC的工艺气路•Doubletubeversion(LC102)to***oidcrosscontamination•***版本（LP102）避免交叉污染•PCcontrolwithEthernetcommunicationforfastdatalogging•配有以太网通讯的PC控制用于快速数据记录•Optionalturbopump•可选配涡轮泵)