法国AnnealsysMOCVD设备型号MC200200mmMOCVD研发设备。应用：在硅基片，玻璃，太阳能电池多晶硅，化合物半导体基片上长金属和合金，过渡金属元素氮化物，碳纳米管，纳米线等膜层设备应用用于镀制——•Semiconductor:SiO2,HfO2,Ta2O5,Cu,TiN,TaN,…•半导体:SiO2,HfO2,Ta2O5,Cu,TiN,TaN,…•HighkDielectric:SrTiO3,BaTiO3,Ba(1-x)Sr