法国AnnealsysSprayCVD设备型号050用于新工艺研发的2″实验室CVD设备、采用相同反应器的喷雾CVD应用：用于太阳能电池的氧化，镀制半导体，电光镀膜，绝缘层镀膜，超导体，固体氧化燃料电池膜层主要特性•Horizontalquartztubewithstainlesssteelflanges•配有不锈钢法兰的水平石英管•Lampfurnaceforprocessupto1200℃•用于工艺的灯炉，***高至1200℃•ThermocouplecontrolwithPIDtemperaturecontroller•热电偶控制PID温度控制器•KemstreamAtokitforatomizationofprecursor•KemstreamAtokit用于源的雾化•PCcontrolwithEthernetcommunication•配有以太网通讯的PC控制)