二氧化硅化学符号：SiO2纯度：99.99%分子量：60.08外观：透明晶体熔点：1730℃密度：2.2-2.7g/cm310ˉ4真空下蒸发温度为：1025℃透明区：160nm～9μm折射率：n=1.46规格：粉末、颗粒或靶材。性能：可用钽舟加热蒸发，也可用三氧化二铝坩埚加热蒸发，但由电阻加热蒸发会产生分解，由电子束加热蒸发效果很好。应用：二氧化硅用途广泛，主要用于冷光膜、防反膜、多层膜、滤光片、绝缘膜、眼镜膜、紫外膜等。)