2英寸实验室用RTP快速热处理系统应用：快速热退火注入退火化合物半导体退火结晶化与致密化等等……特点：3英寸快速热处理工艺设备，专为研发部门设计。样本尺寸：直径***大3英寸的数平方毫米范围2英寸样本可选3英寸基座工艺腔由拥有不锈钢法兰盘的石英管道组成管状红外卤素灯炉。极快的坡道速率带石英槽的水平移动门更利于晶圆的装载卸载和热电偶的安装。热电偶温度测量和快速数字PID温度控制器保障了可控温度范围内的高温和稳定。可选高温计控制。本系统提供全电脑控制，应用控制软件兼容window系统。应用特点：温度范围：RTto1200°C(&plu***n;1°C)温升速率：***高250°C/s气体混合功能：使用质量流量控制器控制。真空范围：大气压～10-6Torr)