CIGS靶材
提供各种靶材用于磁控溅射工艺制备CIGS薄膜一,四元合金靶材:CIGS靶材1,常规原子比:1:0.7:0.3:2或者1:0.8:0.2:2(客户亦可根据自身工艺制订原子比例)技术对接:CVD合成四元合金(高精分析天平称量,各种元素的配比公差低于百万分之一)--氮气保护下研磨制粉–HP(热压)--检验—打磨,抛光。2,检验:ICP-MS;XRD通过ICP-MS检测杂质含量:5N的CIGS靶材的杂质元素总和小于10ppm通过XRD衍射:CIGS具备闪锌黄铜矿结构。(可提供检验报告和样品)3,靶材致密度:大于93%4,服务:可免费提供导电玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客户***后的硒化工艺,因为磁控溅射CIGS的过程中有硒的流失。5,安全防护措施:提供MSDS及溅射过程中的必要防护。二,三硒化二铟(In2Se3)靶材;三硒化而***(Ga2Se3)靶材,硒化亚铜(Cu2Se),或硒化铜(CuSe)靶材技术对接:CVD合成二元合金–HP(热压)--检验—打磨,抛光。三,铜***(CuGa);铜铟(CuIn);铜***铟(CuGaIn)靶材*配方原子比例:客户可***,我方亦可以提供常规原子比例。四,铜(Cu)靶;铟(In)靶,硒(Se)靶技术对接:浇铸五,CIGS配套靶材N型:***(CdS)靶,硫化锌(ZnS)靶,硒化锌(ZnSe)靶。氧化锌铝(AZO)靶,钼(Mo)靶1,由于******,所以硫化锌,硒化锌靶为其替代品。试验表明硒化铟也有此属性。2,***,硫化锌,硒化锌制备工艺:CVD高纯***气携带金属蒸汽(镉,锌蒸汽)进入反应室与过量的H2S,H2Se气体气相沉积而成。)