1、钛靶牌号：TA0，TA1，TA2，TA3，T***(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5(Ti6AL4V)钛圆靶：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97钛板靶：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTMB265-93用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等2、锆靶牌号Zr01(Zr-0)，Zr-1，Zr702(R60702)产地陕西省宝鸡市锆含量≥Zr+Hf≥99.6%杂质含量小于0.4（%）锆圆靶纯度：Zr+Hf≥99.6%技术条件：符合ASTMB550，GB/T8769锆板靶纯度：Zr+Hf≥99.6%技术条件：符合GB/T21183-2007，ASTMB551-92用途：用于电子信息，平面显示器、溅射镀膜，工件表面涂层等3、钨靶、钨圆靶、钨溅射靶材牌号：W1，W2纯度：≥99.95%技术条件：符合GB4187-84,ASTMF288-90钨板靶符合GB3875-83、ASTMB760-86用途：用于电子信息，平面显示器、溅射镀膜，表面涂层、PVD涂料、X射线管等工业。4、钼靶牌号：Mo1，Mo3G(MoLa10)，TZM(钼364)，钼360，钼361钼靶材、钼圆靶：技术条件：符合GB/T17792-1999，GB4186-84，GB4188-84，ASTMB387-90钼板靶技术条件：符合GB3876-83，ASTMB386-915、铌靶、铌圆靶牌号：Nb1，Nb2，FNb1，FNb2，R04210-2,R04261-4技术条件：符合GB/T14842-93，ASTMB392-89铌板靶技术条件：符合GB/T14842-93，ASTMB392-89用途：用于电子信息(集成电路表面镀膜)，平面显示器、溅射镀膜，船舶、化工以及耐热耐腐蚀高导电等镀膜工业等。6、镍靶、镍圆靶牌号：N4，N6,UNSN02200技术条件：符合GB/T4435-84，ASTMB160-93镍板靶技术条件：符合GB/T2054-2005，ASTMB162-93用途：用于电子信息，半导体、平面显示器、溅射镀膜，化工等。7、铬靶牌号：Gr1规格：100*50100*4095*4595*4080*45根据图纸加工供应铬靶，镀铬，真空镀膜，铬靶，溅射镀膜，真空镀铬，铬靶是用***的热等静压（HIP）工艺生产而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm3），成分均匀，晶粒细小，使用寿命长。我公司生产的铬靶纯度99.95%，各种复杂形状的铬靶都可以加工。8、钽靶钽圆靶牌号Ta1，Ta2，R05200，R05400产地：陕西省宝鸡市钽含量：≥99.95（%）杂质含量：小于0.05（%）重量：根据产品规格（kg/块）技术条件：符合GB/T14841-93，ASTMB365-92钽板靶技术条件：符合GB3269-83、ASTMB708-92用途：用于电子信息、通信、平面显示器、溅射镀膜、工件表面涂层等。)