我公司***生产靶材的生产工艺：通过金属熔炼，粉末冶金，非金属粉末方法运用真空熔炼，普通热压，冷压烧结等方法成型，通过锻造，热轧或冷轧，再经过热处理消除型材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性，然后再对处理过的型材进行车，铣，刨，磨等机加工过程，再清洗，烘干，完成***终产品。有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。ITO靶材产品介绍：ITO粉末和TIO靶材为氧化铟和***的混合物，是一种新型的特殊功能氧化物陶瓷材料，金属铟的深加工高新技术产品，ITO薄膜的重要原料。ITO薄膜具有对可见光透明和导电的良好特性，广泛应用于IT行业液晶显示、通讯显示、建筑行业幕墙玻璃和航空航天飞机、豪华汽车上的防雾玻璃领域。ITO靶材主要质量指标：化学成份：In2O3:SnO2=90:10(Wt%)纯度：≥99.99%相对密度:99%密度均匀性偏差:≤&plu***n;0.3%相结构:单一立方In2O3相失氧率:≤3%单片尺寸:250mm×200mm300mm×300mm350mm×320mm厚度可按用户任意要求制造包装:采用塑料薄膜真空封装ITO粉末：ITO粉末主要质量指标：化学化学成份：In2O3:SnO2=90:10(Wt%)纯度：≥99.99%杂质:Fe＜10ppmPb＜10ppmAl＜10ppmCu＜5ppmZn＜5ppmSi＜20ppmCd＜5ppmCo＜5ppmNi＜5ppm粉末的粒径：0.2-5(um)粉末的比表面:1～20(m2/g)粉末的理论密度:7.149(g/cm3)粉末熔点：1900℃包装：采用塑料瓶装后再塑料薄膜真空封装AZO靶材主要技术指标：*化学成分：98wt.%ZnO,2wt.%Al2O3或按用户需要提供；*纯度：3N或4N；*相对密度：≥99.5%；实测密度≥5.60g/cm3*靶材电阻率：5×10—4Ω·cm(表面电阻由于机加工等原因会明显高于此值)；*膜电阻率：采用射频磁控溅射，基片加热温度220℃，在***佳工艺条件下：2.17×10—4Ω·cm；基片加热温度450℃，在***佳工艺条件下：9.06×10—5Ω·cm*目前能提供的***大尺寸：400mm×200mm×9mm。靶材可根据客户的要求定制，我们的产品质量可靠，价格低廉；欢迎您来电洽谈业务！)