哈尔滨工业超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水系统一、概述莱特莱德水处理***从事超纯水，超纯水系统，EDI超纯水设备，EDI超纯水系统及污水处理系统的开发、制造、销售和服务于一体的高科技企业。益民水处理以引进和推广国内外***水处理设备为己任我们开发制造的RO纯水系统和EDI超纯水系统可广泛应用于光伏光电、液晶显示、偏光片、ITO导电膜、电子电器、半导体、线路板、食品饮料、***化工、电厂、生活饮水、化妆品等行业。我们开发研究制造的EDI超纯水系统，在光伏光电、太阳能等行业得到广泛的应用。二、选择工业超纯水的必要性在光伏行业电子管生产中，光伏行业电子管阴极涂甫碳酸盐。如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧火粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致报废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、***等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求哈尔滨工业超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水系统表1显像管、液晶显示器用纯水水质项目单位电阻率MΩ•cm(25t)***个/ml微粒个/mlTOCmg/LNa+μg/LK+μg/LCuμg/LFeμg/LZnμg/L黑白显像管彩色显像管液晶显示器≥5≥5≥5≤5≤1≤1≤10(Φ＞0.5μ)≤10(Φ＞1μ)≤10(Φ＞1μ)≤0.5≤0.5≤1≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤8≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤10在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，***（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化[2]，水中***高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏[3]，水中的颗粒（包括***）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2。表2集成电路（DRAM）对纯水水质的要求[4][5][6]集成电路（DRAM）集成度16K64K256K1M4M16M相邻线距（μm）42.21.81.20.80.5微粒直径（μm）0.40.20.20.10.080.05个数（PCS/ml）＜100＜100＜20＜20＜10＜10***（CFU/100ML）＜100＜50＜10＜5＜1＜0.5电阻率（μs/cm，25℃）＞16＞17＞17.5＞18＞18＞18.2TOC(ppb)＜1000＜500＜100＜50＜30＜10DO(ppb)＜500＜200＜100＜80＜50＜10Na+(ppb)＜1＜1＜0.8＜0.5＜0.1＜0.1在光伏行业晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，***（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，III族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V族素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷（约占灰分的20%~50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒（包括***）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。超纯水中杂质的污染源1.水源的影响由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2,还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、***、微生物、藻类、浮游生物、热源等。2.材料的影响制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。一些高分子材料,在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂、紫外吸光剂、着色剂，也引入大量的金属、非金属杂质，同时还会带来有机污染。3.超纯水生产工艺介绍3.1工艺流程水处理的纯水设计方案，说明工业纯水在光学制造中的应用。本项目选用***、成熟、出水水质稳定、系统运行稳定的反渗透+EDI脱盐装置作为系统的主脱盐设备；系统运行费用低，易于实现自动化。反渗透水处理系统具有很好的经济性。反渗透+EDI脱盐的水处理系统工艺流程如下：原水箱→原水泵→加药装置→多介质过滤器→加药装置→活性碳过滤器→全自动软化器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→中间水箱→二级高压泵→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→TOC分***→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→纯水箱→纯水泵→抛光混床→膜过滤器→生产线用水点。3.2工艺概述3.2.1预处理预处理主要是去除水中的有机物、悬浮物、胶体、硬度和余氯等，以确保RO能正常工作。处理工艺采用多介质过滤、活性碳吸附，减少RO工作时产生垢物和藻类生长及微生物污染及氧化剂。预处理系统包括：原水箱、原水泵、加药系统、多介质过滤、加药系统、活性碳过滤、全自动软化器。3.2.2反渗透装置反渗透装置是该项目预脱盐的心脏部分，经反渗透处理的水，能去除绝大部分无机盐、有机物、微生物等。设计的合理与否直接关系到项目的***费用、整个系统运行的经济效益、使用寿命、操作的可靠简便性。反渗透膜均采用******的超低压复合膜，单根脱盐率达99.8%。当系统设计温度为20℃时，考虑到原水水质变化以及膜的使用寿命等因素，本系统采用8英寸的复合RO膜，安装在不锈钢压力容器内。回收率：50%-75%，脱盐率：98%。RO系统回收率在50%-75%以上，系统脱盐率不小于98%。在本项目中，考虑到设备的节能、运行压力、膜的透过率、膜的脱盐率、出水的含盐量等因素，我公司推荐采用美国DOW,HYDRAUANTICS公司的8040型反渗透膜。4.超纯水系统4.1IONPURE/E-CELL超纯水专用简介CEDI全名为ContinuousElectrodeionization(电解式连续离子法),其主要用途是针对半导体、电厂、电子、制药或实验室等高科技产业提供高纯度的超纯水,该技术问世已超过15年,注册专利名为CDI,其研发成果居于市场***者地位,且闻名于世。CDI电解式连续去离子膜块组的功能与传统的混床离子交换树脂相似,一般皆使用于RO(逆渗透)系统去除水中微量的离子,但CDI系统不需停机再生,因此也不需使用酸碱再生也没有废水排放的问题。4.2IPLX模块优势总结①不需要任何化学物质；②不需要浓水循环泵、加盐泵；③系统不会产生***；④浓水可全部回收；⑤系统运行稳定可靠；⑥安装及维护成本低廉；⑦符合环保及卫生标准。结论哈尔滨工业超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水设备，哈尔滨EDI超纯水系统公司名称：莱特莱德水处理哈尔滨公司http:///办公电话：0451-51882979谢绝推销传真电话：0451-51882979销售服务：刘经理18945042979谢绝推销技术服务：18940199185谢绝推销18904059090谢绝推销采购部：（推销请联系我^_^）18940190403)