微电子、电池工业用超纯水设备微电子/电池工业用水处理设备/电子元件纯水设备/二级管高纯水设备/三级管超纯水设备/电子半导体高纯水设备。24小时联系：余艳13073396006，Q:674831270应用领域和指标要求参考用途用水指标参考标准单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产电阻率15~18.25MΩ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业电阻率15~18.25MΩ.CM美国半导体工业用纯水指标我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、***磁性材料用纯水电阻率10~17MΩ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标蓄电池、锂电池、锌锰电池生产电阻率5~10MΩ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997有色金属、***冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水电阻率15~18.25MΩ.CM我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标主要工艺流程和出水指标：※预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）※预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI+抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）详细工艺需根据原水设计情况进行设计纯水设备的主要特点)