我公司是单晶硅和多晶硅生产清洗工艺用高纯水设备的***生产厂商，单晶硅高纯水设备的具体参数如下：工业超纯水处理：RO＋EDI＋抛光混床设备处力：按客户要求设计出水指标：≥16-18.2MΩ．CM产水用途：电子、等行业用工业超纯水反渗透＋EDI设备处力：按客户要求设计出水指标：≥16-.18.2MΩ．CM产水用途：电子、单晶硅/多晶硅用工业高纯水、纯水设备反渗透（膜分离法）超纯水分离技术反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂（一般指水）通过反渗透膜（一种半透膜）而分离出来，方向与渗透方向相反，可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。反渗透膜的主要分离对象是溶液中的离子范围反渗透分离过程有如下优点：①不需加热，没有相变②能耗少，过程连续稳定③设备体积小、操作简单、适应性强④对环境不产生污染反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺，一般自来水经一级反渗透处理后，产水电导率＜10～20us/cm，经二级反渗透处理后＜5us/cm，甚至更低，在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水，使电阻率高达18.2兆欧姆.厘米更多单晶硅、多晶硅酸清洗用高纯水设备请联系我们，因为直接是生产厂家，故价格便宜，***服务及时、周到详细情况请联系：余艳13073396006，0512-68419873你所有的问题我们都会细心为你解答！)