半导体晶片，芯片清洗用超纯水设备，电子工业超纯水设备，电子芯片清洗用超纯水设备，电子半导体晶片用超纯水设备，电子行业超纯水设备，半导体超纯水设备，纯水设备反渗透设备，反渗透纯净水设备、反渗透水处理设备、纯水设备，高纯水设备、超纯水设备、纯水工程、纯净水设备、上海纯水设备、水处理设备、反渗透纯水设备、高纯水制取设备，电渗析设备，应用领域：·半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；·超纯材料和超纯化学***；·实验室和中试车间·汽车、家电表面抛光处理；·其他高科技精微产品。工艺流程：1、预处理－反渗透－水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象2、预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象3、预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象4、预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（***新工艺）水质标准：(符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级))