应用领域RCVD系列真空气氛管式炉广泛用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制，试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜、纳米氧化锌结构可控生长等等，也可用于金属材料的扩散焊接及真空或气氛保护下的热处理。主要特点采用精炼石英管或高纯高于管作为炉膛，可拆卸的密封方式，具有良好的洁净度和真空度，耐火保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、低能耗。加热元件采用优质硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝；温度控制系统采用原装进口智能多段程序温度控制仪控制，具有良好的稳定性、均匀性。技术指标设备型号RQL-07/75/3RQL-18/110/3RCVD(D)-06/60/3RCVD(G)-09/50/1最高温度1050℃1050℃1050℃1650℃使用温度RT-1000℃RT-1000℃RT-1000℃RT-1600℃控温精度±1℃±1℃±1℃±1℃温区个数3个3个3个1个炉管尺寸Φ70×2200mmΦ180×2100mmΦ60×1400mmΦ90×1450mm发热元件进口电阻丝进口电阻丝进口电阻丝U型硅钼棒最大装机功率7.5KW18KW4KW8KW箱式炉选件功能Z真空系统：机械泵或是机械泵+扩散泵机组或是分子泵Q气氛保护系统：浮子流量计或是进口/国产质量流量计J记录打印系统：有（无）纸记录仪)