新型硬铬电镀工艺HC-100硬铬电镀添加剂是高新技术和创造思维的结晶，完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺，HC-100工艺操作简单，补给水单一添加，镀液维护方便。一、工艺特点：1.阴极电流效率高，可达23-25%2.沉积速度快，是一般普通电镀铬的2-3倍3.无阴极低电流区腐蚀4.镀层平滑，结晶细致光亮5.高镀层硬度，可达HV900-11506.微裂纹可达400-600条/厘米7.镀层厚度均匀，无高电流区沉积过厚8.可使用高电流密度，可达90安培/平方分米9.镀液维护简单，操作容易10.无阳极腐蚀，不需采用特殊阳极11.无固体添加之铭尘和溅水现象二、镀液配方和操作工艺：成分和物理参数一般零件活塞环范围标准范围标准铬酐(克/升)210-250230165-190180LIUSUAN(克/升)2.4-3.52.71.8-2.12.0温度(℃)55-605755-6057阴极电流密度(安培/平方分米)30-756030-7560阳级电流密度(安培/平方分米)15-353015-3530三、镀液配制：镀件铬酐浓度100升镀液一般零件210-250克/升2升HC-100活塞环165-190克/升1.45升HC-1001.清洗槽子2.注入一半体积去离子水3.加入所需量的铬酐4.添加所需量的HC-1005.加入去离子水、调节至规定液面6.加热至55-60℃7.分析LIUSUAN浓度，调整至规定工艺范围8.电解4小时9.加入适宜的铬雾***剂10.试镀四、沉积速度：阴极电流密度(安培/平方分米)沉积速度(微米/小时)3020-304540-506050-707570-90五、设备：镀槽：铁槽内衬软PVC或其它认可材料。阳极：含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。整流器：输出电压可达9-16伏较适宜，输出电流波纹率***好在5%以下。温度控制：采用热交换器或冷却管，建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。六、转缸及前处理：传统的硬铬液转为HC-100工艺简单，将镀液送交本厂化验。确认无机杂质小于7.5克/升，同时不含氟化物即可，HC-100工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。七、槽液维护：HC-100用于槽液之补充添加，按每千安培小时补充4-6毫升。)