QNIX4200覆层测厚仪
QNIX4200铁基膜厚仪,QNIX4200覆层测厚仪是德国QNIX公司推出的一款一体式铁基膜厚仪。体积小巧,携带方便。可以测量铁基上0-3000μm的涂层厚度。无需校准。QNIX4200铁基膜厚仪,QNIX4200覆层测厚仪基体:Fe探头形式:一体LCD数字显示测量范围:0-3000μm显示精度:1μm工作温度:-10-+60℃QNIX覆层测厚仪选型QuaNix技术参数型号42004500120015007500keyless基体FeFe/NFeFeFe/NFeFe、NFe、Fe/NFeFe/NFe探头形式一体一体、分体无线分体显示LCD数字显示测量范围0-3000μmFe:0-3000μmNFe:0-2000μm0-2000μm0-5000μm0-2000μm0-5000μm0-5000μm测量精度0-50μm:≤&plu***n;1μm,50-1000μm:≤&plu***n;1.5%,1000-2000μm:≤&plu***n;2%,2000-5000μm≤&plu***n;3%显示精度1μm0-999μm:0.1μm,1000μm以上,0.01mm工作温度-10-+60℃温度补偿0-50℃存储-1500M型7500M型keyles***型3900个测量值,999个数据组数据传输-RS232打印、电脑统计功能-平均值、***大值、***小值、标准偏差超限报警-上下限***小基体10mm×10mm***小曲率凸、凹半径:3mm/25mm凸半径:5mm,凹半径:25mm***薄基体Fe:0.2mm,NFe:0.05mm电源5号电池2节9V碱性电池1节5号电池2节重量110g130g150g130g尺寸110×60×27mm166×64×34mm110×60×24mm110×62×22mm)
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