产品概况大平台工业显微镜，配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰，衬度好。是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为高级工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。1．采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。2．拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，并在每一观察法中均提供高清晰的图像质量。3．采用非球面Kohler照明，增加观察亮度。4．WF10X（Φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。5．可插DIC微分干涉装置的转换器。技术规格金相显微镜型号光学系统UIS无限远光学系统光路设计反射光路设计观测方式明/暗场观测、偏光观测、微分干涉（DIC）观测放大倍数50X-1000X（可扩展至2000X）目镜超宽场、超大视场目镜10×视场直径达到￠25mm物镜平场无限远长工作距离明暗场物镜：（标配四个）5×/0.1B.D/W.D.29.4mm10×/0.25B.D/W.D.16mm20×/0.4B.D/W.D.10.6mm40×/0.60B.D/W.D.5.4mm转换器带微分干涉（DIC）插口的四孔转换器偏光装置检偏镜可360度转动，起偏镜、检偏镜均可移出光路滤光装置插板式滤色片（绿、蓝、中性）聚光镜NA1.25阿贝聚光镜带可变光栏和滤色片数码系统300万像素彩色CCD系统，实时视频输出、数码拍照、各种图像处理功能图像软件可实现对显微图像的线宽、线距、角度、两点间距离、圆、平行线间距离、任意曲线长度任意多边形等的几何尺寸测量。精度可达±1μm.可拍照数码照片进行分析、存储、处理等调焦系统具有粗、微调同轴调节，行程40mm，微动格值0.002mm载物台二维移动载物台，低位同轴手轮操作X、Y移动范围：250mm×250mm；平台尺寸：350mm×310mm照明系统落射照明：带孔径光栏和视场光栏，卤素灯12V/100W，AC85V-230V亮度可调节选配金相分析软件及数码彩色CCD系统全套共380多个模块主要用途大平台检测金相显微镜作为高级工业显微镜还可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛应用于太阳能电池硅片制造业、半导体晶圆制造业、电子信息产业、治金工业；还应用于工厂、研究机构、高等院校等。)