概述用于表面沾污的单/多晶硅片（2''~8''）进行超声波振荡清洗.2.组成部分设备基本由两个清洗槽构成，一槽为超声波振荡+清洗液+纯水,一槽为纯水。3.控制系统设备操作方便,清洗工作过程带时间控制.超声波发生器可选进口或国产,可分别予以报价.4.装片构成每槽可装载多个花篮，晶片放在清洗花篮内（25片/篮）。5.温控部分超声波振荡清洗过程水温可根据需要设置加热管,清洗功率与超声频率可根据需要调整.可根据客户要求,设计加工.水线设备)