显影蚀刻机
显影机1.概述:本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行显影和定影,该产品技术***、一致性强,适用于规模生产。2.整台设备材料均为进口。3.本设备为双排槽构成,每排7槽,各设一套机械手,两排可***同时完成相应的工序。4.本设备除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。5.每槽装片能力:50片/批(2花篮,25片/花篮)。6.工作区洁净度:100级。7.槽间工艺转换时间:Tmax≤3.5S)
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