点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热缺点电子枪结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调3激光蒸发镀膜采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致缺点易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量电弧蒸发镀膜在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜质量利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。PVD(PhysicalVaporDeition)即物***相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。产生原因：产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染，产品表面有尘点、毛丝等，PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜色。解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少***掉落在产品表面。产生原因：主要原因是产品表面脏污，膜层无法在产品上沉积或结合力差，在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。解决方案：将产品清洗干净，避免污染产品，确保表面洁净度。)