磁控镀膜机的溅射方式有哪些磁控镀膜机的溅射方式有哪些下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象.而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.真空镀膜设备的相关特性是什么呢?真空镀膜设备的相关特性是什么呢？1.真空镀膜设备沉积材料：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系.2.真空镀膜设备节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的.3.真空镀膜设备无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。真空镀膜机在镀铝膜方面的使用真空镀膜机在镀铝膜方面的使用镀铝膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态，之后塑料薄膜经过真空蒸发室时，气态的铝分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜，镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料，其中的加工方法当数真空镀铝法，就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金属的特性，是一种廉价美观、性能优良、实用性强的包装材料。与传统镀铝工艺相比较，真空镀铝膜有优点就太多了，如：（1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～gpm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。（3）具有的金属光泽，光反射率可达97%；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。（5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证了包装的密封性能。（6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。由于以上特点，使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜，在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、农产品的真***装，以及***、化妆品、的包装。另外，镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。)