精密量具和传感器展品展示了我国在纳米光栅测量系统、高精度三维数字扫描测头及蓝牙微米数显量具方面的发展。作为精密制造的关键几何量位移测量传感器，光栅测量系统占据了***重要的地位。展会上众多厂商及科研院所展示的新技术、新产品，表明了我国量具量仪制造业在高精度长度计量和测量关键基础技术上所取得的新成就：自主创新开发，拥有了纳米分辨力、亚微米精度、编码的光栅位移量传感器的成套制造技术和装备，已经生产出了能满足市场需求、批量生产的高质量可靠产品。在***重大专项的支持下，我国近期在高ji数控机床用光栅位移测量系统的开发上取得了重大的进展。以西安交大为首、通过产学研结合开发的微纳米光栅滚压印成套新技术及新装备，为我国高精度精密光栅的设计制造技术和加工工艺开辟了一条崭新途径；成功开发出的高ji数控机床用长光栅，已获得用户认可。?纳米级重复***精度超精密传动、驱动控制技术微、纳米级高精度传感器的生产现场适应性更强，精度更高。RENISHAw的SP80超高精度数字式扫描测头，分辨率为0.02μm；ZEISS的VAST三维六向扫描测头系统，采用平行片机构，分辨率为0.05μm，扫描范围达2mm。Werth的光纤测头，半径仅为12.5μm，号称世界较小，适用于超细、超精密工件的测量。我国测量技术和相关仪器的研究取得了一系列重要进展，新型测量原理、测量技术、测量系统及仪器设备不断出现：新型传感原理及传感器、***制造的现场、非接触、数字化测量，微纳米级超精密测量、超大尺寸精密测量、基标准及相关测量理论研究等方面都有了长足的发展。科学院光电技术研究所微电子装备总体研究室在纳米级高精度检焦系统方法研究中取得新进展：提出了一种双光路光强调制光栅检焦方法，该方法利用两光路的信号比求解硅片的离焦量，消除了光强波动导致的测量误差，具有纳米量级的测量精度，在光刻领域具有很大的应用价值。其中光栅传感器因具有易实现数字化、精度高（目前分辨率高的可达到纳米级）、抗干扰能力强、没有人为读数误差、安装方便、使用可靠等优点，在机床加工、检测仪表等行业中得到日益广泛的应用。)