磁控镀膜机的溅射方式有哪些磁控镀膜机的溅射方式有哪些下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象.而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.真空镀膜设备的相关特性是什么呢?真空镀膜设备的相关特性是什么呢？1.真空镀膜设备沉积材料：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系.2.真空镀膜设备节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的.3.真空镀膜设备无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。离子镀膜设备的工作原理及操作方法离子镀膜设备的工作原理及操作方法目前商业上已有很精制的设备安装在显微镜下的载物台的位置上。溅射镀膜时，将抛光的试样安放在式样头具上，倾转到面对电子枪（阴极）的位置，调节溅射室中的气压，辉光放电，阴极溅射，反应溅射沉积。一定时间后，中断溅射，把溅射沉积的试样表面，转回到面对物镜的位置，观察试样表面的颜色，来评定沉积膜的厚度，当要求的颜色得到时，镀膜操作停止。)