浅谈镀镍电镀液去除铜杂质的方法铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2有以下几种方法。1）电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu2沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受效应的影响，电解过程中Ni2和Cu2同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2在阴极析出。商品生产电镀分为直接电镀和间接电镀，直接电镀小到一支针一个螺丝钉，大的到轮船飞机都要依靠电镀工业才能实现。不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；b.采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果；无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、shen化jia、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99%以上要求。c.电解处理中使用的阳极板必须是的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。2）化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁青化物，在镀液中与Cu2生成亚铁青化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。3）螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni2共沉积，可以使镀液中ρ（Cu2）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。)