公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用***和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.光刻板的应用光刻技术主要应用于半导体器件，集成电路制造过程中一种具有保护环的光刻板，包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环，所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起，所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔，所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处，所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘，所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性***的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（IntegratedCircuit，集成电路）、FPD（FlatPanelDisplay，平板显示器）、PCB（PrintedCircuitBoa***，印刷电路板）、MEMS（MicroElectroMechanicalSystems，微机电系统）等。使用掩膜板存在许多损伤来源:掩膜板掉铬:表面擦伤，需要轻拿轻放:静电放电(ESD)，在掩膜板夹子。如需要烤版，烤版时要注意：①首先要选好烤版胶，烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制，一定要用热水溶胶，胶要彻底溶开、过滤再用。②把适量的烤版胶涂在版面上，用海绵将版面涂擦均匀。③烤版胶不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，图像区域会均匀变色。当上述条件确定制版机后，PS版的显影程度与显影时间成正比关系，即显影时间越长，显影越彻底。不同的PS版，烘烤时间、温度及终颜色会不一致，所以需通过试验确定烤版条件。)