公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！蚀刻工艺通常称为版刻蚀（Etch）是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括IC制造、IC封装、平面显示和印制线路板等行业，应用于主流消费电子（手机、平板、可穿戴设备）、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED照明、物联网、电子等终端产品。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且性价比高的刻蚀解决方案。光学掩模板的应用光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成电路）芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的***，这个时候的掩膜也可称为光罩。准纳光电制作掩膜板，光刻铬版，设计，制作，加工，批量化生产蚀刻工艺精度1um承接掩模板，光刻铬板，标定板，光栅板，分划板，异型玻璃加工如需要烤版，烤版时要注意：①首先要选好烤版胶，烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制，一定要用热水溶胶，胶要彻底溶开、过滤再用。②把适量的烤版胶涂在版面上，用海绵将版面涂擦均匀。③烤版胶不能用干布擦拭。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。④版材在烘版箱中烘烤，图像区域会均匀变色。不同的PS版，烘烤时间、温度及终颜色会不一致，所以需通过试验确定烤版条件。)