公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光学掩模板的应用光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成电路）芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的***，这个时候的掩膜也可称为光罩。准纳光电制作掩膜板，光刻铬版，设计，制作，加工，批量化生产蚀刻工艺精度1um承接掩模板，光刻铬板，标定板，光栅板，分划板，异型玻璃加工尺寸涨缩原因分析胶片在光绘前没有经过预置由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。)