离子束刻蚀常见的效应刻蚀的理想结果是将掩模(mask)的图形准确地转移到基片_上，尺寸没有变化。由于物理溅射的存在，掩模本身的不陡直和溅射产额随离子束入射角变化等原因，产生了刻面(Faceting)、槽底开沟(TrenchingorDitching)和再沉积等现象，这些效应的存在降低了图形转移精度。想要了解更多离子束刻蚀机的相关信息，欢迎拨打图片上的***电话！离子束刻蚀机离子束刻蚀是从工件上去除材料，是一个撞击溅射过程。当离子束轰击工件，入射离子与靶原子碰撞时将动能传递给靶原子，使其获得的能量超过原，子的结合能，导致靶原子发生溅射，从工件表，面溅射出来，以达到刻蚀的目的。刻蚀加工时，对离子入射能量、束流大小、离子入射角度以及工作室压力都需要根据不同的加工需求进行调整。离子束刻蚀可以在加工、表面抛光、石英晶体谐振器制作等方面得到应用。离子束刻蚀机由真空室、工作台、快门、真空抽气系统、供气系统、水冷系统、电源和电器系统等主要部分组成,图1-1所示为离子束刻蚀机的工作原理图。该机在正常工作时,首先将真空室的压力抽至2×10-3Pa或更低,再调节Ar气流量,使真空室压力保持在1×10-2~2×10-2Pa(如需要辅助气体,如O2、CH2等,则可按一定比例与之混合),然后启动离子源各电源,使离子源正常工作,从离子源引出一定能量和密度的离子束被中和器发射的电子中和后,轰击工件进行溅射刻蚀。)