300C有机无机联合蒸发主要用途：用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。系统组成:该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。技术指标：极限真空度：≤6.7×10Pa***真空时间：从1×10Pa抽至5×10Pa≤20min系统漏率：6.7×10-7Pa.L/S；真空室：Ф400x400mm圆筒型真空室，蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的***电话！300D三源有机蒸发镀膜机特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试系统、电控系统组成。极限真空度6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；***真空时间：40分钟可达6.6×10Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气）样品台：尺寸为4英寸平面样品；蒸发源：3套4套挡板系统：挡板共有3套，动密封手动控制；气路系统:质量流量控制器1路可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统如需了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，欢迎拨打图片上的***电话！)