蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备所镀产品图蒸发镀膜设备所镀产品图程，形成薄膜。pvd真空电镀的原理主要是物***相沉积，其是当前国际上广泛应用的***的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。pvd真空电镀扛氧化，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，镀膜外壳容易清除油漆和***。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，不褪色，不脱落。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。化学镀层的结合力要普遍高于电镀层。化学镀由于大部分使用食品级的添加剂，不使用诸如qing化物等***物质，所以化学镀比电镀要环保一些。化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色，而电镀可以实现很多色彩。化学镀镍技术是采用金属盐和还原剂,在材料表面上发生自催化反应获得镀层的方法。到目前为止，化学镀镍是国外发展快的表面处理工艺之一，且应用范围也比较广泛。化学镀镍之所以得到迅速发展，是由于其优越的工艺特点所决定。促使电流分布均匀用的辅助阳极或挡板应能直接弄到塑胶电镀挂具上，或者用其他方式来促使它不能随意变动。不论以何种方式来安排，其与镀件间的相对位置须按测试结果校正后确定。挂具、镀件相互干扰的情况也常因为镀槽内过分满载，过量的装载镀件使镀液无法稳定而使零件间的镀厚无法保证均衡。同时镀液的对流、搅拌和加热保温都无法保证正常。)