大塚电子（苏州）有限公司主要销售用于光学特性评价?检查的装置。其装置用于在LED、OLED、汽车前灯等的光源?照明产业以及液晶显示器、有机EL显示器等平板显示产业以及其相关材料的光学特性评价?检查。欢迎新老客户来电咨询！测量示例：SiO2SiN[FE-0002]的膜厚测量半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号，但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径，有必要隔离晶体管，埋入绝缘膜。SiO2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于绝缘膜。SiO2用作绝缘膜，而SiN用作具有比SiO2更高的介电常数的绝缘膜，或是作为通过CMP去除SiO2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。为了绝缘膜的性能和精准的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。彩色抗蚀剂（RGB）的薄膜厚度测量[FE-0003]液晶显示器的结构通常如右图所示。CF在一个像素中具有RGB，并且它是非常精细的微小图案。在CF膜形成方法中，主流是采用应用在玻璃的整个表面上涂覆基于颜料的彩色抗蚀剂，通过光刻对其进行***和显影，并且在每个RGB处仅留下图案化的部分的工艺。在这种情况下，如果彩色抗蚀剂的厚度不恒定，将导致图案变形和作为滤色器导致颜色变化，因此管理膜厚度值很重要。考虑到表面粗糙度测量的膜厚值[FE-0007]当样品表面存在粗糙度（粗糙度）时，将表面粗糙度和空气（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模拟为“粗糙层”，可以分析粗糙度和膜厚度。此处示例了测量表面粗糙度为几nm的SiN（氮化硅）的情况。膜厚仪直接的镀膜操纵方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，此法可以直接驱动蒸发祥，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只有将仪器与系统控制软件相连接，它就可能节制全体的镀膜进程。然而QCM的正确度是有限的，部分起因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。)