2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。2.3物***相沉积；PVDphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。真空镀膜厂家真空镀膜加工镀铝怎样镀厚由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法如下：①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律：R=pXL/S单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Q，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0～2.5Q。)