钙钛矿镀膜设备以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！设备用途：适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域设备组成：该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?)