湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。离子渗氮炉是将被处理的工件放置在真空容器中，在辉光放电条件下进行渗氮。离子渗氮炉是将被处理的工件放置在真空容器中，在辉光放电条件下进行渗氮。离子渗氮炉包括炉体、真空系统、供气系统、测温系统及控制系统所组成。离子渗碳是将工件装入温度在900℃以上的真空炉内，在碳氢化合物的减压气氛中加热，同时在工件(阴极)和阳极之间施加高压直流电，产生辉光放电现象，使活化的碳被离子化，在工件附近加速并轰击工件表面进行渗碳的工艺。双极性脉冲中频靶电源一般带孪生靶或双靶运行。两个靶的工作电压极性相反同时又不断互换极性，电压极性为负时的磁控靶发生溅射，极性为正时的那个磁控靶不产生溅射。??由于阴阳极间电场正负极性来回变化，使电子路径延长，与工作气体碰撞次数增加，故单个磁控靶承载同样功率(其它真空环境条件相同)时，选用双极脉冲中频靶电源比用纯直流靶电源和脉冲直流中频靶电源时，工作气体的离化几率和靶材的沉积速率均要高一些。??磁控靶阴极电压极性为负时，其单脉冲气体放电应与直流气体放电伏-安特性曲线异常辉光放电段及之前段的变化规律(趋势)相符。在置有板状电极的玻璃管内充入低压（约几毫米厷柱）气体或蒸气，当两极间电压较高（约1000伏）时，稀薄气体中的残余正离子在电场中加速，有足够的动能轰击阴极，产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒子，使气体导电。??两种靶电源不同之处：选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源，因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节，镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多；当电压调整到400~800V时，氮即电离分解成氮离子、氢离子和电子，并在工件表面产生辉光放电现象。适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。?(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄，若相关参数选配合适，一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中，其优点是靶电源价格可以相对便宜。??)