?真空镀膜加工真空镀膜厂真空镀膜操作规程1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电......1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。3.在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。5.***物品要妥善保管，以防。6.酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。8.工作完毕应断电、断水。真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年,开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年,透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年,开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年,在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。1874年,报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年,碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年,薄膜的真空蒸发(坩埚)(Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)；膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。真空电镀原理电镀厂需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同，但均含有提供金属离子的主盐，能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂，用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂，阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等)。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。因此，这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程。)