带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。电镀时，基体不锈钢屏风和不锈钢屏风镀层之间常因存在非不锈钢的夹层而不能形成连续的结晶结构，造成镀层起泡或脱落等结合不良的缺陷。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层***的扩散作用和化学反应。古铜色劈裂电弧涂层，含Si纳米复合涂层，极高抗热性能，适合硬切削，纳米硬度4300Hv，纳米厚度1~3μm。摩擦系数0.3。应用温1200℃.加工硬度可达65HRC.用途：特适合加工淬火、钢淬火硬钢、不锈钢、沉淀硬化不锈钢8)黑色劈裂电弧涂层，纳米厚度1-3μm，加工硬度可达58HRC.用途：特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金)