多弧离子PVD镀膜设备腔体结构：立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统材质用料：腔体采用SUS304不锈钢材质离子弧源：依据设备大小不同配备多套弧电源系统偏压电源：配备大功率单级脉冲偏压电源多弧靶材：标配多套钛靶或不锈钢靶材转动系统：变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式真空系统（装饰镀膜设备Decorativecoating）：扩散泵（可选分子泵）罗茨泵机械泵维持泵深冷系统（可选）真空镀膜机工艺在光学仪器中的运用大家了解的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及平时生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技能，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。镀膜机工艺在集成电路制造中的运用，镀膜机晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铜及其合金）等多是选用CVD技能、PVCD技能、真空蒸腾金属技能、磁控溅射技能和射频溅射技能。可见气相堆积术制备集成电路的核心技能之一。不锈钢基材真空物***相沉积镀工艺，生产“黄金卷”这种钢卷以不锈钢为基材，通过PVD（真空物***相沉积镀工艺）制造成所需颜色，该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。日常生活中以手表的外壳、表带为常见，另外就是家电、装饰材料等。玻璃纳米镀膜设备PCVD工艺具有广泛的用途。（1）超硬膜的应用（TiN、TiC、TiCN、（TiAl）N、C-BN等）PCVD法宜于在外形复杂、面积大的工件上获得超硬膜，沉积速率可达4～10μm/h，硬度大于2000HV，绕镀性好，工件不需旋转就可得到均匀的镀层。大量应用于切削刀具、磨具和耐磨零件。（2）半导体元件上尽缘膜的形成过往半导体元件上的尽缘膜大多用SiO2，现在用SiN4H2用PCVD法来形成Si3N4，Si3N4的尽缘性、性、耐酸性、耐碱性，比SiO2强，从电性能及其掺杂效率来讲都是的，特别是当前的高速元件GaAs尽缘膜的形成，高温处理是不可能的，只能在低温下用等离子法进行沉积。)