简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，能够用光的干与理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发作屡次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确认（见光在分界面上的折射和反射）。光学镀膜所触及的制造工艺是劳作和资本密集型的，并且非常耗时。影响镀膜本钱的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，需求镀多少层膜以及光学件上需求镀膜的外表数量。镀膜选用的堆积工艺对镀膜本钱以及镀膜功能方面的影响也非常巨大。此外，在这之前还需求做大量的准备作业，以保证每个镀膜光学件的质量都能达到较高水平。镀膜机抽气不均会影响镀膜均匀性。基片干净很重要。真空镀膜前要将基片表面认真清洁干净，达到工件去油、去污和脱水的目的。基板表面污染从零件在加工，运输等过程中附着的各种各样的灰尘、油脂、抛光膏、汗渍等，在潮湿环境下，基片表面易氧化，形成氧化膜吸附气体。对于这些污物，都能用去油或化学方法清洗干净。干净的基片不要直接放在外面，需要用封闭容器存放，减少沾污。镀膜室内也是会积灰的，所以要清洗镀膜室内，烘烤除气，并将机器放置在干净的环境里。注意扩散泵返油。镀膜的原材料有很多，如树脂、硅酮、硅盐酸、聚合物等，辅料、配方的比列有所不同，薄膜也不同。)