待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（IntegratedCircuit，集成电路）、FPD（FlatPanelDisplay，平板显示器）、PCB（PrintedCircuitBoa***，印刷电路板）、MEMS（MicroElectroMechanicalSystems，微机电系统）等。掩膜版是制作掩膜图形的理想感光性空白板，通过***过程，这些图形的信息将被传递到芯片上，用来制造芯片。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式***（***波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应经过显影、定影后，***区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层刻蚀或离子注入完成后，将进行光刻的后一步，即将光刻胶去除，以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常，半导体器件制造整个过程中，会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻，而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。赓旭光电光学玻璃可用于制造光学仪器中的滤光片、透镜、棱镜、反射镜及窗口等。)